Електронний каталог ПУЕТ - Пахомов, С. - Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст] - AbsOPAC

Навігатор :

Особистий кабінет:

Електронний каталог: Пахомов, С. - Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст]

Пахомов, С. - Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст]

Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст]

Немає прим.

Стаття
Автор: Пахомов, С.
Компьютер пресс. Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст]
б.г.
ISBN відсутній

На полицю

(UA) Стаття

Пахомов, С.
Второе дыхание 193-нм литографии, или Особенности 32-нм техпроцесса [Текст] / С. Пахомов // Компьютер пресс. – 2009. – N3. – С.76-79.

Загальний = Технологія : нанотехнологія
Загальний = Забезпечення : апаратне